台積電推遲至2029年後部署ASML下一代先進EUV設備

台積電表示，為節省1成本，將會推遲至2029年後，再部署購買ASML最先進的晶片生產光刻機。

台積電副共同營運長張曉強表示，台積電目前並無計劃，採用ASML最新的高數值孔徑極紫外光刻機(high-NA EUV)，形容每部售價超過3億5千萬歐元是非常昂貴。

張曉強宣布，台積電A13先進制程晶片，將會在2029年投入生產，強調仍然能夠充分利用現有的極紫外光刻機(EUV)。

有關決定可能對ASML的業務前景構成挑戰，ASML預計，high-NA EUV設備將在未來兩年進入大規模生產，目標是在2030年實現最高600億歐元的收入。

受到消息刺激，台積電在美股上市的ADR升超過百分之4，ASML的ADR就跌百分之4。