Intel據報擬在日設立半導體研發中心

3/9/2024 15:56

        美國晶片廠Intel據報與日本官方研究機構, 計劃在日本設立先進半導體研發中心, 以提升日本晶片設備製造與材料產業.
        日經亞洲報道, 新研發中心預計在未來3到5年落成, 擬配備極紫外光微影技術(EUV)設備. 設備製造商與材料商只要繳交費用, 就能使用設備進行測試與試作, 是日本第一座供廠商共用EUV曝光機的研發中心, 亦是日本研究機構首度導入EUV曝光機.
        隸屬於日本經濟產業省的產業技術綜合研究所(AIST)將負責營運這座研發中心; 而Intel將提供使用EUV技術製造晶片的專業知識. 這座研發中心的總投資額上看數百億日圓.
        EUV在製造5納米以下先進晶片扮演重要角色, 不過一部EUV設備要價逾400億日圓, 並非中小型材料商與設備商可單獨負擔的價格.
        而隨著美中科技競爭日趨激烈, 美國加強限制對中國EUV相關出口, 其中包含設備與材料, 不過限制措施亦導致日本廠商, 從海外研究機構回收數據到日本更加費時. 未來日本國內就能使用EUV曝光機, 將可減少美國限制帶來的阻礙.